對(duì)準(zhǔn)精度達(dá)100納米，nanoscribe推出quantum x align 3D打印機(jī)

2022年1月28日，南極熊獲悉，專業(yè)的雙光子聚合（2PP）3D打印技術(shù)公司Nanoscribe宣布，推出最新的Quantum X align 3D打印機(jī)。

這臺(tái)3D打印機(jī)在舊金山舉行的2022年P(guān)hotonics West展會(huì)上首次亮相，據(jù)說(shuō)是一臺(tái)能夠直接在光纖和光子芯片上打印自由形態(tài)的微光學(xué)元件的3D打印機(jī)。它是在自動(dòng)納米精度對(duì)準(zhǔn)功能的幫助下實(shí)現(xiàn)的，這是其他微型打印機(jī)所沒有的功能。

△Nanoscribe Quantum X對(duì)準(zhǔn)，照片來(lái)自Nanoscribe

因此，Quantum X對(duì)準(zhǔn)是為了通過制造芯片和光纖之間的自由空間微光學(xué)互連（FSMI）實(shí)現(xiàn)可靠的光耦合。

Nanoscribe公司首席執(zhí)行官兼聯(lián)合創(chuàng)始人Martin Hermatschweiler說(shuō)："隨著新的Quantum X對(duì)準(zhǔn)器加入我們的Quantum X平臺(tái)，我們正在用對(duì)準(zhǔn)技術(shù)來(lái)豐富雙光子聚合技術(shù)，推動(dòng)數(shù)據(jù)通信、電信和傳感應(yīng)用中不斷增長(zhǎng)的需求。我們的目標(biāo)是解決光子封裝中高效耦合的挑戰(zhàn)，使高精度3D打印成為集成光子學(xué)的首選技術(shù)"。

與Nanoscribe一起深入到納米級(jí)領(lǐng)域

Nanoscribe成立于2007年，是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）孵化的一家公司，專門從事基于雙光子聚合的3D打印機(jī)。2021年6月，這家公司被生物打印公司BICO集團(tuán)（前身為CELLINK）收購(gòu)，交易價(jià)值為5000萬(wàn)歐元的現(xiàn)金、股份和收益。

Nanoscribe在世界各地的大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和工業(yè)公司擁有超過3000名用戶，在微打印領(lǐng)域已聲名鵲起。他們的產(chǎn)品越來(lái)越豐富，現(xiàn)在包括Quantum X、Quantum X shape、Quantum X bio和Photonic Professional GT2。

為了實(shí)現(xiàn)微流體和微光學(xué)的應(yīng)用，Nanoscribe還提供了自己的專業(yè)樹脂系列。這些包括用于光聚合物部件的IP Photoresin系列和用于硅玻璃微結(jié)構(gòu)的GP-Silica材料。

Quantum X對(duì)齊

光子集成電路（PIC）有望幫助加快微電子的計(jì)算能力，同時(shí)將功耗降至新低。不幸的是，PIC設(shè)備的生產(chǎn)需要繁瑣的放置和主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)各種微光元件以形成互連。Nanoscribe的最新創(chuàng)新將解決這個(gè)問題。

Quantum X對(duì)準(zhǔn)自動(dòng)檢測(cè)光子芯片和光纖芯的光學(xué)接口和空間方向，能夠直接在原地3D打印自由形態(tài)的微光學(xué)元件。系統(tǒng)甚至考慮到了元件的傾斜，消除了人工主動(dòng)對(duì)準(zhǔn)的需要。Nanoscribe稱，機(jī)器在所有空間維度上的對(duì)準(zhǔn)精度可以達(dá)到100納米。

Quantum X對(duì)準(zhǔn)機(jī)有一個(gè)相對(duì)較大的打印區(qū)域，尺寸為50 x 50毫米，應(yīng)用范圍很廣。系統(tǒng)的能力非常適合于從微流體和傳感器系統(tǒng)到微創(chuàng)內(nèi)窺鏡等程序的小型化醫(yī)療設(shè)備。

Quantum X align是2022年棱鏡獎(jiǎng) "制造和測(cè)試 "類別的決賽選手。

△不同類型的光纖到芯片的自由空間微光耦合器（FSMO）在Quantum X上3D打印，圖片來(lái)自Nanoscribe

技術(shù)規(guī)格和價(jià)格

以下是Quantum X align 3D打印機(jī)的技術(shù)規(guī)格

打印面積：50 x 50mm
對(duì)準(zhǔn)精度： 100nm (XY)/500nm (Z)
表面粗糙度（Ra）：10納米
形狀精度(Sa)：250nm
特征尺寸控制： 100nm